Le groupe Matériaux, Plasmas et Procédés travaille depuis de nombreuses années sur la PVD (Physical Vapour Deposition) magnétron. Nous avons pour ambition d’aborder l’ensemble des aspects des dépôts par pulvérisation réactive, de la compréhension de la chimie du plasma à l’élaboration et la caractérisation des films et de leurs propriétés, dans une démarche pluridisciplinaire. L’expertise du groupe d’abord centrée sur les oxynitrures (de silicium, de tantale…) s’élargit maintenant à des procédés hybrides plus complexes (associant PVD et PECVD ou PVD et évaporation…) ou à d’autres types de matériaux comme les carbonitrures et les oxyfluorures. Dernièrement, nous avons davantage orienté nos recherches vers des aspects « nano » en travaillant sur la synthèse de nanoparticules isolées, de nano-composites ou sur le traitement de poudres par des procédés plasmas.
Ces activités s’inscrivent majoritairement dans les domaines de l’Energie et de l’environnement. Les applications visées concernent de manière générale le solaire (avec, par exemple, le développement de systèmes antireflets pour le PV ou de dispositifs pour le solaire thermique) ou la photo(électro-)catalyse (pour la dégradation de polluant, la conversion du CO2 et la production de H2 vert). En parallèle, notre expertise dans les procédés plasmas nous permet de proposer des traitements de surface de polymères pour diverses applications (imprimabilité, adhésion…).
Depuis 2011, ce groupe s’adosse sur un plateau technique PLASMAT pour répondre à des besoins industriels via des prestations ou des contrats de recherche.