Publié le 12 décembre 2016 - Mis à jour le 20 novembre 2020

Angelique BOUSQUET

Coordonnées

Téléphone +33473405372

Activités / CV

Parcours de recherche

  • Habilitation à Diriger les Recherches - 2012. Institut de Chimie de Clermont-Ferrand – Université Clermont Auvergne
  • MCF 33ème section - depuis septembre 2006. Laboratoire des Matériaux Inorganiques – Université Blaise Pascal
  • Post-doctorat - 2006. Max Planck Institut for Polymer Research à Mainz (Allemagne) – Groupe polymères pour application biologique.
  • Doctorat - 2002 à 2005 Institut des Matériaux Jean Rouxel (Nantes) – Equipe Plasma et Couches minces.
  • Ingénieur de l’Ecole Polytechnique de l’Université de Nantes – Option Matériaux – 2002 – DEA Science des Matériaux, Institut des Matériaux Jean Rouxel (Nantes)

Fonctions à l’ICCF

Autres responsabilités

  • Correspondant budget du Réseau Plasmas Froids, de la Mission pour les Initiatives Transverses et Interdisciplinaires du CNRS.
  • Membre du comité d’organisation du congrès PLATHINIUM.
  • Responsable de la Commission de la pédagogie de l’UFR de Chimie.

Thèmes de recherche

  • Procédé de pulvérisation réactive

Pulvérisation réactive à 2 gaz réactif, procédés hybrides : PVD/évaporation ou PVD/PECVD, différentes alimentations (RF, DC, DC pulsé), ajout de plasma MW secondaire.

  • Matériaux : des couches minces aux nanoparticules

Oxyfluorures (BiOx, BiOxFy), Oxynitrures (SiOxNy, TaOxNy, TiNbOxNy…), carbonitrures (SiNxCy:H)

Synthèse de nanoparticules (métallique, oxyde, …) par pulvérisation dans des liquides ioniques

  • Domaine d’applications dans l’énergie (PV, solaire thermique) et l’environnement (photocatalyse).
 

Recherches actuelles

  • Couches minces et nanoparticules d’oxyfluorures par pulvérisation réactive en Ar/O2/CF4 pour la photocatalyse.
  • Système antireflet pour le photovoltaïque à base de carbo- et/ou oxynitrures de silicium (SiNOC:H, SiOxNy). (Action NANO-CAR du Labex Imobs3 et ANR HD PLASMA).
  • Couches minces d’oxynitrures pour le solaire thermique (ANR NANOPLAS et collaboration Pr. Cong Wang de Beihang University, Chine)
  • Traitement plasma des polymères pour l’adhésion (CIFRE IREIS/HEF)