Thématique MATEPP - Matériaux, Plasmas et Procédés

Responsable : Eric Tomasella, Professeur UCA

Le groupe Matériaux, Plasmas et Procédés s’intéresse au dépôt de couches minces par PVD (Physical Vapour Deposition) radiofréquence magnétron. Il a pour ambition d’aborder l’ensemble des aspects des dépôts par pulvérisation réactive, de la compréhension de la chimie du plasma à l’élaboration et la caractérisation des films et de leurs propriétés, dans une démarche pluridisciplinaire. L’expertise du groupe d’abord centrée sur les oxynitrures (de silicium, de tantale…) s’élargit maintenant à des procédés hybrides plus complexes (associant PVD et PECVD ou PVD et évaporation…) ou à d’autres types de matériaux, les carbonitrures notamment. Ces activités s’inscrivent majoritairement dans le domaine d’application de l’Energie. Les applications visées concernent de manière générale l’Optique, avec par exemple le développement de systèmes antireflets ou de couches absorbeurs pour le solaire.

Depuis 2011, ce groupe s’adosse sur un plateau technique PLASMAT pour répondre à des besoins industriels via des prestations ou des contrats de recherche.

Enfin, le groupe fait partie de manière active (membre du comité de pilotage) du Réseau Plasmas Froids de la Mission pour l’Interdisciplinarité du CNRS.

Thèmes de recherche

De la pulvérisation réactive à des procédés hybrides

Matériaux oxynitrures et carbonitrures

Applications dans le domaine du solaire

Applications pour le traitement de surface

Équipements

MATEPP_equip1

L’équipe MATEPP dispose de 3 réacteurs de dépôt/traitement de surface par procédé plasma.

PVD 1  : Réacteur PVD hybride (2 cathodes RF + 4 crayons MW), porte substrat chauffant et polarisable.

MATEPP_equip2

PVD 2 : Réacteur PVD (2 Cathodes RF, crayons MW adaptables), pouvant travailler en atmosphère fluorée, porte-substrat polarisable. Financement Soutien à l’Innovation de la Région Auvergne.

MATEPP_equip3

ALCATEL 450  : Réacteur PVD (4 cathodes coplanaires), porte substrat chauffant et polarisable, connecté à une boîte à gant pour matériaux hydroscopiques.

L’équipe MATEPP dispose également de moyens d’outils de caractérisation du plasma et des propriétés des couches minces.

Spectromètre avec caméra CCD (220-1050 nm), mesures résolues en temps.

Ellipsomètre spectroscopique UVISEL ex-situ sur la gamme 0,59 – 4,965 eV (250 – 2100 nm).

Banc de mesures électriques courant/tension (mesures 2 points ou 4 pointes).

Personnels

Personnels permanents

Doctorants/Post-Doctorants

Nom Statut Support Dates
Fadi Zoubian Doctorant MESR Octobre 2009 - Juillet 2013
Jorge Posada Doctorant CIFRE février 2012 - Mars 2015
Amira Farhaoui Doctorante Labex Septembre 2012 - juin 2016
Abdellatif Bachar Doctorant Labex Décembre 2015 - ...
Sara Ibrahim Doctorante MESR Octobre 2017 - ...
Mohamed Mounder Kouicem Doctorant CIFRE Mai 2018 - ...
Olivier Debieu Post-doctorant Région Octobre 2012 - Août 2013
Yuanyuan Na Post-doctrorant Région Décembre 2012 - Décembre 2013

Projets financés

Collaborations

Publications